Degradao de PoliestirenoPriscila Folkl Laise da Costa A. S. Moratto Ricardo A. Marques Reginaldo T. Konatu

Introduo Poliestireno Descoberto por Eduard Simon em 1839 Material Termoplstico Formado por monmeros de estireno devido a reao a baixo

Existem 3 tipos de Poliestireno:1.PS cristal;

2.PS resistente ao calor;3.PS de alto impacto; 4.PS expandido.

Caractersticas Do Poliestireno: Fcil processamento por moldagem a quente; Fcil colorao; Baixo custo; Transparente (sem colorao); Elevada resistncia a lcalis e cidos; Baixa densidade e absoro de umidade; Baixa resistncia a solventes orgnicos, calor e intempries; Seu grupo fenila absorve ondas com entre 270 e 280 m

Introduo Degradao de Polmeros Degradao de polmeros mudana nas propriedades fsicas causadas por reaes qumicas, causando reaes de ciso de ligao qumica de macromolculas

Tipos de degradao Degradao qumica: polmeros em contato com substncias qumicas; Degradao trmica: polmeros sofrem mudanas a altas temperaturas; Biodegradao: polmeros sofrem ataque microbiolgico;

Degradao mecnica: polmeros sofrem

influncias de foras cisalhantes; Fotodegradao: polmeros sofrem irradiao

de raios UV, causando mudanas fsicas equmicas. Degradao por radiao: polmeros sofrem mudanas fsicas e qumicas dependendo da natureza do material irradiado e da radiao.

Metodologia Material : Poliestireno (Faca Descartvel) Banho Higrotrmico UV (Temperatura e Umidade) Banho cido (HCl) Banho Bsico (NaOH) Pesagem da Massa (Semanal) Microscopia ptica Ensaio Mecnico (Cisalhamento)

Resultados

Imagem do Polmero Antes da Degradao

Imagem do polmero aps degradaoPode-se observar que no houve mudana visvel durante as degradaes, exceto na degradao em UV.

Variao de massaTratamento massa inicial massa 1 massa 2 massa 3 massa 4 massa 5 massa 6

UV

0,7573 g

0,7570 g

0,7605 g

0,7564 g

0,7553 g

0,7547 g

0,7540 g

Banho cido

0,797 g

0,788 g

0,788 g

0,782 g

0,789 g

0,787 g

0,784 g

Banho Bsico

0,723 g

0,720 g

0,722 g

0,720 g

0,720 g

0,715 g

0,721 g

Banho Higrotrmico

0,728 g

0,728 g

0,728 g

0,728 g

0,728 g

0,728 g

0,728 g

Microscopia Amostra in Natura (250x)

Microscopia Amostra Banho Higrotrmico (250x)

Microscopia Amostra UV (250x)

Microscopia Amostra UV (250x)

Microscopia Amostra Banho cido (250x)

Microscopia Banho Bsico (250x)

Ensaio MecnicoAMOSTRA Banho Higrotrmico UV Banho cido Banho Bsico In Natura

Espessura mdia (mm)

2,2

2,1

2,1

2,2

2,3

Largura mdia (mm)

16,1

16,1

16,3

16,2

16,1

Ensaio MecnicoAMOSTRA Banho Higrotrmico 866,154 UV Banho cido 618,451 Banho Bsico 582,195 In Natura

Tenso de mxima de ruptura (MPa)Tenso mxima (MPa)

444,293

875,338

866,154

444,293

618,451

582,653

875,338

Concluso O UV foi o tratamento que mais influenciou o material, ou seja, os grupos fenila absorveram muita luz UV deixando o material mais frgil. Outra coisa importante que a colorao do material mudou drasticamente assim como sua superfcie, visto na microscopia das amostras atacadas em UV. O Banho higrotrmico foi o que menos influenciou no material, diminuindo pouco a sua tenso mxima e variando pouco sua massa durante o tratamento, provando que o material absorver pouca umidade.

Concluso Os banhos cido e bsicos no influenciram muito na cor do material, mas provocaram ataques em sua superfcie que provocou diminuio de sua tenso mxima de ruptura, porm o banho cido influenciou menos que o bsico. A variao de massa nesses tratamentos foram pequenas tambm.

FIM